次磷去除劑Wak-P說明書

一,、 產品說明

化學鍍是一種不需要通電,，依據(jù)氧化還原反應原理,，利用強還原劑在含有金屬離子的溶液中,，將金屬離子還原成金屬而沉積在各種材料表面形成致密鍍層的方法,。目前主要還原劑使用的大多為鹽，普通的石灰沉淀等方法無法完全去除廢水中的次磷亞磷酸鹽,，總磷超標已成為化鍍行業(yè)主要的污染指標之一,。

共立環(huán)境針對電鍍廢水中次磷亞磷的形態(tài)，專門研發(fā)了次磷去除劑Wak-P,，該藥劑是由多種無機礦物復合調配而成,，通過的協(xié)同作用，把次磷亞磷全部轉化為磷酸鹽沉淀而去除,。

二,、 產品簡介

Wak-P為灰白色固體，一般溶解于自來水中配制成液體,，根據(jù)廢水中磷含量按照一定比例投加使用,。一般投加量為廢水中磷濃度的8~10倍。

三,、 使用方法

1,、 調節(jié)廢水至適宜環(huán)境，

2,、 投加一定量的Wak-P攪拌均勻,，

3、 投加適量攪拌30min,，

4,、 調節(jié)廢水pH后投加PAM絮凝沉淀，

5,、 上清液過濾測總磷含量,。

四、 注意事項

1,、 配制濃度：5~15%w/w,；

2,、 Wak-P需與廢水充分攪拌后再投加

3、 調節(jié)pH必須使用儀表,，不可使用試紙檢測

4,、 不同PH下需選擇合適的PAM