一.拋光粉的總類:
拋光粉通常由氧化鋁,、氧化硅,、氧化鋯、氧化鈰等組份組成,,不同的材料的硬度不同,,在水中的化學性質(zhì)也不同,因此使用場合各不相同,。氧化鋁和氧化鋯的莫氏硬度為9,,氧化鈰和氧化硅為7,氧化鐵更低,。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活性較高,,硬度也相當,因此廣泛用于玻璃的拋光,。
二.對拋光粉的基本要求:
(1)微粉粒度均勻一致,,在允許的范圍之內(nèi),;
(2)有較高的純度,不含機械雜質(zhì),;
(3)有良好的分散性,,以保證加工過程的均勻和高效,可適量添加分散劑提高懸浮率,;
(4)粉末顆粒有一定的晶格形態(tài),,破碎時形成銳利的棱角,以提高拋光效率,;
(5)有合適的硬度和密度,,和水有很好的浸潤性和懸浮性,因為拋光粉需要與水混合
粒度越大的拋光粉,,磨削力越大,,越適合于較硬的材料,要注意的是,,所
有的拋光粉的顆粒度都有一個分布問題,,平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢,而大粒徑Dmax決定了拋光精度的高低,。因此,,要得到高精度要求,必須控制拋光粉的大顆粒,。普通拋光粉之所以存在劃傷,,就是有大顆粒的原因。所以一般選擇粒徑分布范圍窄的納米拋光粉(VK-L30F),。
拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度,濃度越大拋光速度越高,。使用小顆粒拋光粉時,漿料濃度因適當調(diào)低以得到合適的流動性,,一般建議在7-10%
三.拋光模的選擇
拋光模應(yīng)該用軟一點的,。應(yīng)該指出的是,很多聚氨酯拋光片中添加了氧化鈰拋光粉,。這些拋光粉的大顆粒度同樣決定了終的拋光精度,。一般好使用不加拋光粉的拋光模。
四.影響拋光粉性能的指標
1,、粉體的粒度大?。侯w粒的大小及均勻度決定了拋光速度和精度,過篩的篩網(wǎng)目數(shù)能掌握粉體相對的粒度的值,,平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平,。
2、粉體莫氏硬度:硬度相對大的粉體具有較快的切削效果,,同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果,;不同的應(yīng)用領(lǐng)域會有很大出入,,包括自身加工工藝。
3,、粉體懸浮性:好的拋光粉要有較好的懸浮性,,粉體的形狀和粒度大小對懸浮性能具有一定的影響,納米粒徑的拋光粉的懸浮性相對的要好一些,,所以精拋一般選擇納米拋光粉,。
4、粉體的晶型:粉體的晶型是團聚在一起的單晶顆粒,,決定了粉體的切削性,、耐磨性及流動性。粉體團聚在一起的單晶顆粒在拋光過程中分離(破碎),,使其切削性,、耐磨性逐漸下降,顆粒為球型的拋光粉具有良好的切削性,、耐磨性和流動性,。
五.拋光范圍細分:
作為精細拋光材料,目前市場上用量大的幾類拋光粉主要是氧化鋁拋光粉,,氧化鈰拋光粉,,氧化硅拋光粉等。
1.氧化鋁拋光粉:
氧化鋁拋光粉(VK-L30F)一般用于大理石石材拋光,,金屬鋁材拋光,,金屬不銹鋼拋光,金相(亞克力板)拋光,,PCB印制電路板拋光,,油漆拋光,樹脂拋光,,玉石拋光,,顆粒大小根據(jù)要求一般分布在0.2-0.5um之間。
2. 二氧化硅拋光粉:
一般用于人工晶體,,寶石拋光,或者金屬制品精拋后修復其少量的瑕疵,。其粒徑一般分布在0.3-1um
3. 氧化鈰拋光粉或者拋光液(VK-Ce02W):
用于鏡頭,、電視顯像管、眼鏡片,、晶圓,,光學元件、光纖,、藝術(shù)玻璃,、電子玻璃,、平板玻璃等的拋光。一次粒徑一般要求在20-30nm,二次粒徑一般要求0.2um,。
186 2016 2680,,微信:gzjr88